C11000 kobber til deponeringsenheder

C11000 kobber har en hårdhed på 45 HRB, en anden vigtig parameter for dets mekaniske egenskaber. Hårdhed henviser til et materiales evne til at modstå ridning eller indrykk, og det er også en vigtig indikator for en materiales slidstyrke. For C11000 kobber sikrer dets moderate hårdhed, at det er mindre modtageligt for slid og deformation under brug.

Karakteristika for C11000 kobber inden for deponeringsenheder:
Substrater og mål: I processer som fysisk dampaflejring (PVD) og kemisk dampaflejring (CVD) er substrater og mål kernekomponenterne, der muliggør deponering af tynde film, og C11000 kobber er det ideelle valg for fremstillingen af ​​disse komponenter på grund af dets fremragende elektriske ledningsevne og lav elektriske modstandsfagter, hvilket sikrer kvaliteten og homogen af ​​filmene i filmene.
Opvarmningselementer: Præcis temperaturstyring er påkrævet under deponeringsprocessen for at sikre filmkvalitet, og C11000 kobber bruges ofte som et varmeelement på grund af dets fremragende termiske ledningsevne og modstand mod høje temperaturer, hvilket muliggør hurtig og ensartet varmeoverførsel til deponeringsområdet, forbedring af deponeringseffektivitet og kvalitet.

Hvorfor os
1. Fremragende arbejdere
2. streng kvalitetskontrol
3. produkter af topkvalitet
4. Innovativt designteam
5. Hurtigste ledetid
6. Det hurtigste svar
7. Tilpasset til at imødekomme dine unikke specifikationer
8. Fabriksbesøg varmt velkommen
9. praktisk transport

Populære tags: C11000 kobber til deponeringsenheder, Kina C11000 kobber til deponeringsenheder producenter, leverandører, fabrik